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  • 氧化鋅靶材發展趨勢分析

    發布時間:2018-05-11 返回列表


    磁控濺射業已成為快速、均勻且成本相對低廉地沉積薄膜的主流技術手段。這些行業主要依靠磁控濺射ZnO靶材來沉積高質量ZnO薄膜,因此ZnO基濺射靶材成為一種重要的消耗型基礎原材料。然而,國內所用的高性能ZnO基濺射靶材絕大部分還依賴進口,關鍵技術和高端產品仍然掌握在幾個歐美日的大公司手中,雖然有一些國內企業開始涉足,但是其技術水平以及生產管理水平與國外先進公司相比存在較大的差距,還沒有一個專業化并有一定規模的靶材公司在全球高端靶材市場占據一席之地。


    在平板顯示、薄膜太陽能電池、LED半導體器件、建筑用Low-e玻璃以及汽車鍍膜玻璃中,ZnO及其摻雜的薄膜可廣泛用作透明電極層、介質層、高反層、減反層、功能控制層。根據對下游行業規模的測算,ZnO基濺射靶材的近期需求量約為4100噸,產值近62億;由于上述光電信息行業都屬于快速成長的高新技術行業,年均年增長率為20%以上,對ZnO濺射靶材的需求也將實現同比例增長,到2022年,有望達到9000噸,產值近150億元。


    氧化鋅靶材在電致變色玻璃上應用

    氧化鋅靶材在Low-E玻璃上應用

    氧化鋅靶材在薄膜太陽能電池上應用

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